首页 资讯频道 互联频道 智能频道 网络 数据频道 安全频道 服务器频道 存储频道

蚀刻机逐步获得新突破 芯片设备国产替代指日可待

2020-10-15 15:43:33 来源 : 产业最前线 搜狐号

近日,国内半导体设备龙头企业中微公司公布了登陆科创板的首份“答卷”,营收及利润同步增长。而同时其旗下刻蚀设备也迎来新突破,并成功挺进5nm产线。

芯片生产设备的更新升级,将进一步带动国产芯片快速发展。作为芯片生产的基础设备之一,中微自主研发5nm刻蚀机有望打破垄断壁垒,进一步加速芯片国产替代步伐。

蚀刻机逐步获得新突破

“刻蚀”和“光刻”一样,都是芯片生产必不可少的工序。可以说,光刻机是芯片制造的魂,蚀刻机是芯片制造的魄,要想制造高端芯片,这两者必须达到顶尖。

从工艺上来说,光刻机就是把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。刻蚀是紧密连接光刻的后续环节,两者相辅相成,不可分割。

截止到目前,全球刻蚀工艺主要以7nm为主,并逐渐向6.5nm设备市场进发,而中微企业首次突破产业壁垒,使我国成为全球第一个能够制造5nm刻蚀机的国家,遥遥领先于世界。根据中微公司最新披露,其5nm高端刻蚀机设备已经获得台积电的认可,并建立起批量订单交易。

当然,除了中微公司在半导体设备上的“突围”之外,中芯国际、北方华创、靖江先锋等半导体芯片公司也在5nm蚀刻机核心零部件领域取得先进成果,据靖江市科学技术协会消息,靖江先锋半导体5nm芯片工艺刻蚀核心零部件已经研发成功,即将投入生产。

可以说,半导体厂商的逐步发力,为我国芯片设备长足发展提供了有利条件,进一步打破国外垄断壁垒,芯片国产替代步伐进一步加速。

芯片国产替代指日可待

值得一提的是,我国不仅在蚀刻工艺环节获得新突破,在光刻领域我国也不断交出满意答案,带动国产芯片迅速崛起。

作为国内芯片龙头企业,中芯国际已经成功引进荷兰ASML光刻机设备,为国产芯片扩能奠定了良好基础。

而近日,又一利好消息传来,被誉为“半导体行业里明珠”的光刻机再创“国之辉煌”。据多家媒体联合报道,福建安芯半导体公司成功出货一台光刻机,价值两千万。根据进一步了解,此台光刻机国产化程度已经达到60%以上,将被送至我国科研机构用于CMOS芯片领域的研发。

可以说,突破光刻机困局,才真正打响国产芯片的“突围之战”,国产芯片自主化趋势越来越明显。

前不久,华为第一款“纯国产芯片”麒麟710A的问世,打破了国内芯片对外国及台积电芯片的依赖,是我国芯片转向自主化发展的真正开始。而此款芯片是由中芯国际14nm工艺生产制程,两大巨头的联合为国产芯片发展注入一剂“强心剂”,国产芯片未来可期。

作为国内芯片龙头企业,中芯国际持续发力,不仅实现14nm的量产,还进一步突破7nm生产技术防线,实现N+1、N+2工艺的新突破,对于打破国产芯片生产困局有重要作用。目前,N+1工艺已经进入客户导入阶段。

此外,紫光展锐的发展势头也不容小觑,凭借其虎贲系列芯片的成功获得了海内外的广泛认可,成为国产芯片势力中新的增长极。

不可置否,我国芯片行业起步较晚,受困于国外技术封锁和垄断壁垒的存在,芯片技术发展缓慢。但是,随着5G时代的到来,我国芯片发展迎来180度大转弯,半导体生产设备及芯片技术的进步,为芯片的国产替代提供了坚实的基础。实现弯道超车,不是没有可能。

相关文章

最近更新